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反应釜污垢的清洗方法 一、化学清洗 首先要知道设备内的垢样成分，是取样分析。确定污垢成分后先做试验，选用清洗剂同时通过试验确定对设备金属不会造成腐蚀。然后通过现场架设临时循环装置将清洗液在设备内循环流动，洗去污垢。 二、机械清洗 采用高压清洗装置，将150-200MPa的高压水通过喷头冲刷污垢。 两种方法各有利弊，化学清洗用工少，清洗时间短，清洗彻底，但是可能会造成设备被腐蚀；机械清洗不会对设备产生腐蚀，对硬垢可以有效清洗，但是用时长、劳动强度大。因此化学清洗应用在污垢较软、薄的工况，机械清洗应用在污垢硬、厚的工况。
搅拌反应釜与搅拌罐的区别在于： 密封性能： 1、填料密封 它的原理就是依据轴向压紧填料，使得产生径向扩张而引起的密封，由于周和填料是动密封，填料对于轴的摩擦力很大，导致轴发热使得轴的工作状况变坏，轴的所需要功率增大，而且它的密封性能较差，如果轴的安装有较大的偏差的时候，会引起泄漏，但是填料密封的价格要便宜的。 2、机械密封 它是一种功率小。泄漏率低、密封性能可靠，使用寿命比较长的轴封密封，被广泛的使用在了各个的技术领域。机械密封在运行的时候，除了装在轴上浮动环由于磨损需要做轴向移动补偿，安装在浮动环上的辅助密封则会随浮动环沿轴表面做微型的移动，故轴和轴套被磨损是微不足道的。因此可以免去轴或者是轴套的维修。由于机械密封时有众多优点，所以在搅拌设备上会被大量的采用。 它的原理就是：当轴旋转的时候，设置在垂直于转轴的两个密封面（其中一个安装在轴上随轴转动，另一个是安装在静止的机壳上），通过弹簧力的作用，始终使它们保持接触，并且作相对运动，使得泄漏不会发生。机械密封常会因为轴的尺寸和使用压力增加而使得结构趋于复杂。
间歇釜式反应器 间歇釜式反应器或称间歇釜 操作灵活，易于适应不同操作条件和产品品种，适用于小批量、多品种、反应时间较长的产品生产。间歇釜的缺点是：需有装料和卸料等辅助操作，产品质量也不易稳定。但有些反应过程，如一些发酵反应和聚合反应，实现连续生产尚有困难，至今还采用间歇釜。 间歇操作反应器系将原料按一定配比一次加入反应器，待反应达到一定要求后，一次卸出物料。连续操作反应器系连续加入原料，连续排出反应产物。当操作达到定态时，反应器内任何位置上物料的组成、温度等状态参数不随时间而变化。半连续操作反应器也称为半间歇操作反应器，介于上述两者之间，通常是将一种反应物一次加入，然后连续加入另一种反应物。反应达到一定要求后，停止操作并卸出物料。 间歇反应器的优点是设备简单，同一设备可用于生产多种产品，尤其适合于、染料等工业部门小批量、多品种的生产。另外，间歇反应器中不存在物料的返混，对大多数反应有利。缺点是需要装卸料、清洗等辅助工序，产品质量不易稳定。
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